抛光范围：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛光

抛光特点：具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石玉器等的抛光加工。

应用范围：XVDEVIOS安装包中文版氧化硅分散液具有粒径小，溶度高，分散好等特点，用在抛光液中，以化学作用为主，添加螯合剂，活性剂，可以解决表面粗糙度，波纹度，表面缺陷等传统问题，可以做光学镜面抛光，宝石镜面抛光等精密抛光。

技术指标：